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小型真空鍍膜機

簡要描述:小型真空鍍膜機采用大抽速分子泵準(zhǔn)無油高真空系統(tǒng),機架電控一體化設(shè)計,整體布局緊湊合理,充分考慮人機工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益彰。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-11-06
  • 訪  問  量:467
  小型真空鍍膜機是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設(shè)計開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無油高真空系統(tǒng),機架電控一體化設(shè)計,整體布局緊湊合理,充分考慮人機工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益彰。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所教學(xué)、制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等,特別適合太陽能電池、有機EL、LED顯示管研究與開發(fā)領(lǐng)域。
 

 

  小型真空鍍膜機主要特點/優(yōu)勢:
 
  ★     玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察;
 
  ★     復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準(zhǔn)無油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);
 
  ★     兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長時間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設(shè)計;
 
  ★     專業(yè)真空蒸發(fā)電源,數(shù)顯工作電流和電壓,恒流輸出;
 
  ★     可鍍110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;
 
  ★     襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;
 
  ★     良好的薄膜均勻性和重復(fù)性,可在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚;
 
  ★     可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
 
  ★     設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小(0.92平米);設(shè)備配腳輪,方便移動和定位。
 
 

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